人民網上海6月28日電 （龔莎） 6月27日至29日， ASML（阿斯麥）攜全方位一體化光刻解決方案亮相上海新國際博覽中心，參與全球規模最大的國際半導體展。
光刻設備是半導體制造環節的核心設備之一。光刻工藝決定了半導體芯片的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。ASML深耕光刻技術，根據市場產品需求，不斷突破技術極限，支持客戶持續縮小芯片線寬，提高芯片性能，減少芯片功耗。
在SEMICON China 2020期間的網絡平台直播上，ASML全球副總裁、中國區總裁沈波表示：“ASML深耕中國市場超過三十年，從第一台光刻機開始，我們持續以客戶為中心，不斷引進創新的光刻技術和服務，成為中國半導體行業的親歷者、見証者、和推動者。未來，ASML還將持續投入、擴大布局、培養人才，攜手行業伙伴，和中國半導體產業實現共同發展。”
本次展會ASML帶來的全方位的光刻解決方案，包括光刻機，量測檢驗，和計算光刻等，為全球半導體產業客戶提供了強化微縮與提高良率的整體方案，同時也不斷地推進摩爾定律成為現實。
一年一度的國際半導體展SEMICON China也是全球半導體人才交流的盛會。在6月28號舉行的ASML中國線上分享會上，ASML中國高管和網友就行業話題、人才發展觀和企業文化等進行了深入的交流和互動。
